本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
做晶圓破片對位時,兩支鏡頭因間距限制,無法同時看到左右影像,適合使用一支鏡頭,左右調整移動鏡頭來觀看對準情形,可配合使用快速掃描台加快對位速度。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值,若沒有電壓,可能是後方溫度保護開關的線沒接好,或是電源供應器本身故障。
一般是先調整前後與旋轉,調到兩組aign key接近平行,再換手調整前後與左右,不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
我們一般使用美國ARC的汞燈泡,若需使用Ushio, Osram等廠牌汞燈泡,我們也可以配合設計製作。