本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
汞燈點燈後,由於燈泡剛亮,溫度尚低,水銀未能揮發成氣態,導電介值仍主要是內部之氣體,在水銀揮發前的過渡期,電壓電流會不斷變動。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key,是影像系統打光的bright field,影像品質較佳,環形打光適用於align key有高度差的構造, 是影像系統打光的dark field,影像品質通常較差。
光罩以真空吸附於吸盤上,下吸式吸盤先以手由下方托著光罩,將光罩貼附於吸盤下方,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空,上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空。
使用兩支對準鏡頭可同時看到左右兩個align key,對位調整比較快。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。