本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份,若手指不小心碰到燈泡,可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂,以免產生爆炸風險。
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍,散熱不佳,需加裝散熱器以加強散熱。
可以考慮我們的桌上型曝光機。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
可能是因為燈泡溫度一直過冷,裡面的水銀無法揮發,請檢查散熱風扇或抽風管,降低燈箱散熱風速,讓燈泡能熱起來。
光罩與基板欲進行真空吸附,chuck四週會有膜片封住,在對位時,需有吹氣破真空,以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行, 吹氣時膜片會震動而發聲,可調整吹氣的大小以減低音量。