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本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。

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  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機，對位製程每小時可產出250片以上，無對位製程每小時可產出350片以上，全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出，產量為業界最高，兩倍於其他廠牌機型。

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  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器，以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制，可使光強輸出長時間穩定，以均勻化的透鏡陣列產生的光束，在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

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  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值，內部電磁接觸器做過載保護，後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源，以及燈箱過溫保護互鎖線路，操作性能良好，穩定性佳,耐用度高，最適合生產線使用。

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  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

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訊息公告 More
常見問題 More
鏡頭倍率應該調整多大才適合?

可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小，以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。

請問使用兩支對準鏡頭的好處在那?

使用兩支對準鏡頭可同時看到左右兩個align key，對位調整比較快。

使用I-line濾鏡把NUV的另兩種波長濾除，為什麼I-line的強度會降低

I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長，而讓約70%的I-line波長通過，但難免會擋掉一小部份I-line波長，目前尚無100%通過的濾鏡。

請問我們是經費不多的半導體實驗室，想買一台基本功能都有的曝光機，你們有適合的機型嗎?

可以考慮我們的桌上型曝光機。

請問我的光阻有I-line與H-line兩種，請問你們有適合的曝光源嗎?

我們的標準曝光源，波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line， H-line， G-line三個光束，適用你們的需求。

請問你們機台的製作時間要多久?

手動機通常是下單後2~3個月，全自動機通常是下單後5~6個月。