我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
光罩與晶圓進行真空吸附時,以眼觀看發覺吸附不良,真空表的值也比正常值小,真空膜片也沒有內凹,需如何處理?

先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換,若真空膜片良好也放置妥當,可再試著調整吸附真空,若情形無改善,可能是管路阻塞,需拆管路清潔。

你們的NUV曝光源含有三種光束,我的光阻是I-line光阻,需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?

一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。

請問我的光阻有I-line與H-line兩種,請問你們有適合的曝光源嗎?

我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。

請問汞燈泡的使用時數是多少?

依燈泡廠的規格,350W燈泡是600小時,500W燈泡是800小時,1000W以上燈泡是1000小時左右。

請問高壓汞燈電源供應器維修需時多久?

約要一個星期來修。

使用I-line濾鏡把NUV的另兩種波長濾除,為什麼I-line的強度會降低

I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。