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本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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曝光源點燈後，電源供應器顯示的電壓電流值不斷變動，功率值也低，是否正常?
汞燈點燈後，由於燈泡剛亮，溫度尚低，水銀未能揮發成氣態，導電介值仍主要是內部之氣體，在水銀揮發前的過渡期，電壓電流會不斷變動。
請問UV鏡與橢圓鏡要多久更換?
一般正常使用，UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年，若是發生出光強度明顯減弱，可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形，定再決定是否更換。
請問汞燈泡的使用時數是多少?
依燈泡廠的規格，350W燈泡是600小時，500W燈泡是800小時，1000W以上燈泡是1000小時左右。
鏡頭倍率應該調整多大才適合?
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小，以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。
我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?
若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。