我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。

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  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機，對位製程每小時可產出250片以上，無對位製程每小時可產出350片以上，全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出，產量為業界最高，兩倍於其他廠牌機型。

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  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器，以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制，可使光強輸出長時間穩定，以均勻化的透鏡陣列產生的光束，在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

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  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值，內部電磁接觸器做過載保護，後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源，以及燈箱過溫保護互鎖線路，操作性能良好，穩定性佳,耐用度高，最適合生產線使用。

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  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

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訊息公告 More
常見問題 More
置放晶圓要用什麼工具?

晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊，若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。

請問可以向你們購買曝光源組裝到我們的機台上再交貨給客戶嗎?

若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突，歡迎購買我們的曝光源。

請問何時適合使用一支對準鏡頭?

做晶圓破片對位時，兩支鏡頭因間距限制，無法同時看到左右影像，適合使用一支鏡頭，左右調整移動鏡頭來觀看對準情形，可配合使用快速掃描台加快對位速度。

我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?

若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。

光罩需如何固定?

光罩以真空吸附於吸盤上，下吸式吸盤先以手由下方托著光罩，將光罩貼附於吸盤下方，側邊頂住定位小螺絲，再開啟真空，上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上，側邊頂住定位小螺絲，再開啟真空。

請問你們曝光燈箱使用那家的高壓汞燈?

我們一般使用美國ARC的汞燈泡，若需使用Ushio， Osram等廠牌汞燈泡，我們也可以配合設計製作。