本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
一般是先調整前後與旋轉,調到兩組aign key接近平行,再換手調整前後與左右,不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
若您的對位精度不需要很高,熟練的操作員一分鐘最快可以做完3片。
曝光源燈箱內部有溫度保護開關,以防止燈泡過熱爆炸,若是燈箱散熱不良,溫度溫度到達保護開關的設定,電源供應器就會跳脫。
可以考慮我們的桌上型曝光機。
光罩以真空吸附於吸盤上,下吸式吸盤先以手由下方托著光罩,將光罩貼附於吸盤下方,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空,上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空。
光罩吸盤以真空吸附固定光罩,兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好,可先用溶劑把兩者清潔,若仍有漏氣,可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除,再用溶劑把兩者清潔。