我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key，是影像系統打光的bright field，影像品質較佳，環形打光適用於align key有高度差的構造， 是影像系統打光的dark field，影像品質通常較差。
請問我的光阻有I-line與H-line兩種，請問你們有適合的曝光源嗎?
我們的標準曝光源，波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line， H-line， G-line三個光束，適用你們的需求。
請問我的晶圓需要用背面的align key來做對位，有適合的機型嗎?
我們的雙面對準曝光機，有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度，但光罩與基板的影像無法同時清晰，請問有什麼辦法?
影像倍率加大則影像景深會變小，可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像，但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
請問安裝汞燈泡為何要加裝散熱器?
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍，散熱不佳，需加裝散熱器以加強散熱。
對準台光罩吸盤蓋下後，會聽到chuck有聲音，正常嗎?
光罩與基板欲進行真空吸附，chuck四週會有膜片封住，在對位時，需有吹氣破真空，以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行， 吹氣時膜片會震動而發聲，可調整吹氣的大小以減低音量。