本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
台灣客戶通常是預付30%,交機40%,驗收30%。
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定,請檢查氣壓是否不足,是否有漏氣,也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
可能是因為燈泡溫度一直過冷,裡面的水銀無法揮發,請檢查散熱風扇或抽風管,降低燈箱散熱風速,讓燈泡能熱起來。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍,散熱不佳,需加裝散熱器以加強散熱。