本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
使用兩支對準鏡頭可同時看到左右兩個align key,對位調整比較快。
汞燈內含水銀,在高熱狀態爆炸,水銀會以霧化狀散開,若燈箱有連接抽風管,可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部,若燈箱散熱風直接排於室內, 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部,清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷,清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭, 並注意排除可能造成爆燈的因素,再換上新燈泡重新點燈操作。
約要一個星期來修。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。