本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
依燈泡廠的規格,350W燈泡是600小時,500W燈泡是800小時,1000W以上燈泡是1000小時左右。
使用兩支對準鏡頭可同時看到左右兩個align key,對位調整比較快。
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。