我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。
請問你們有demo機可以試用嗎?
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key，是影像系統打光的bright field，影像品質較佳，環形打光適用於align key有高度差的構造， 是影像系統打光的dark field，影像品質通常較差。
鏡頭倍率應該調整多大才適合?
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小，以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
我在換燈泡時手指不小心碰到燈泡，請問要如何處理?
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份，若手指不小心碰到燈泡，可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂，以免產生爆炸風險。
我的曝光源點燈後出光強度一直很低，等了快一個鐘頭都沒有改善，請問是什麼問題?
可能是因為燈泡溫度一直過冷，裡面的水銀無法揮發，請檢查散熱風扇或抽風管，降低燈箱散熱風速，讓燈泡能熱起來。