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本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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鏡頭倍率應該調整多大才適合?
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小，以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
請問我的光阻有I-line與H-line兩種，請問你們有適合的曝光源嗎?
我們的標準曝光源，波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line， H-line， G-line三個光束，適用你們的需求。
請問何時適合使用一支對準鏡頭?
做晶圓破片對位時，兩支鏡頭因間距限制，無法同時看到左右影像，適合使用一支鏡頭，左右調整移動鏡頭來觀看對準情形，可配合使用快速掃描台加快對位速度。
我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度，但光罩與基板的影像無法同時清晰，請問有什麼辦法?
影像倍率加大則影像景深會變小，可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像，但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?
若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。
光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。