我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
請問你們機台的製作時間要多久?

手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。

請問我的光阻有I-line與H-line兩種,請問你們有適合的曝光源嗎?

我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。

我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度,但光罩與基板的影像無法同時清晰,請問有什麼辦法?

影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。

請問我的晶圓需要用背面的align key來做對位,有適合的機型嗎?

我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。

我的曝光源點燈後出光強度一直很低,等了快一個鐘頭都沒有改善,請問是什麼問題?

可能是因為燈泡溫度一直過冷,裡面的水銀無法揮發,請檢查散熱風扇或抽風管,降低燈箱散熱風速,讓燈泡能熱起來。

請問我們是經費不多的半導體實驗室,想買一台基本功能都有的曝光機,你們有適合的機型嗎?

可以考慮我們的桌上型曝光機。