我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
More
常見問題
More
我們的曝光燈箱內的汞燈在使用中爆炸了，處理程序如何?
汞燈內含水銀，在高熱狀態爆炸，水銀會以霧化狀散開，若燈箱有連接抽風管，可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部，若燈箱散熱風直接排於室內， 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部，清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷，清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭， 並注意排除可能造成爆燈的因素，再換上新燈泡重新點燈操作。
請問我們是經費不多的半導體實驗室，想買一台基本功能都有的曝光機，你們有適合的機型嗎?
可以考慮我們的桌上型曝光機。
置放晶圓要用什麼工具?
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊，若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
鏡頭倍率應該調整多大才適合?
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小，以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
使用I-line濾鏡把NUV的另兩種波長濾除，為什麼I-line的強度會降低
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長，而讓約70%的I-line波長通過，但難免會擋掉一小部份I-line波長，目前尚無100%通過的濾鏡。
請問何時適合使用一支對準鏡頭?
做晶圓破片對位時，兩支鏡頭因間距限制，無法同時看到左右影像，適合使用一支鏡頭，左右調整移動鏡頭來觀看對準情形，可配合使用快速掃描台加快對位速度。