本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
台灣客戶通常是預付30%,交機40%,驗收30%。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。