我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
請問可以向你們購買曝光源組裝到我們的機台上再交貨給客戶嗎?

若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。

請問你們有demo機可以試用嗎?

我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。

請問你們的付款條件是?

台灣客戶通常是預付30%,交機40%,驗收30%。

使用I-line濾鏡把NUV的另兩種波長濾除,為什麼I-line的強度會降低

I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。

我要曝光的基板是6吋方, I-line曝光的能量約150mJ/cm2,請問適合的曝光源是那種?

若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。

請問你們機台的製作時間要多久?

手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。