本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
一般是先調整前後與旋轉,調到兩組aign key接近平行,再換手調整前後與左右,不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定,請檢查氣壓是否不足,是否有漏氣,也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
我們一般使用美國ARC的汞燈泡,若需使用Ushio, Osram等廠牌汞燈泡,我們也可以配合設計製作。
曝光源燈箱內部有溫度保護開關,以防止燈泡過熱爆炸,若是燈箱散熱不良,溫度溫度到達保護開關的設定,電源供應器就會跳脫。