我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
請問你們有沒有晶圓正反兩面同時曝光的機型?

我們有雙面曝光曝光機,可做對位與曝光。

我要曝光的基板是6吋方, I-line曝光的能量約150mJ/cm2,請問適合的曝光源是那種?

若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。

我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度,但光罩與基板的影像無法同時清晰,請問有什麼辦法?

影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。

請問我只要測光阻材料在不同gap時曝光的特性,有適合的機型嗎?

我們有簡易曝光機,沒有影像對位功能,可適合您的應用。

請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?

同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key,是影像系統打光的bright field,影像品質較佳,環形打光適用於align key有高度差的構造, 是影像系統打光的dark field,影像品質通常較差。

我們的曝光燈箱內的汞燈在使用中爆炸了,處理程序如何?

汞燈內含水銀,在高熱狀態爆炸,水銀會以霧化狀散開,若燈箱有連接抽風管,可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部,若燈箱散熱風直接排於室內, 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部,清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷,清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭, 並注意排除可能造成爆燈的因素,再換上新燈泡重新點燈操作。