本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
光罩吸盤以真空吸附固定光罩,兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好,可先用溶劑把兩者清潔,若仍有漏氣,可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除,再用溶劑把兩者清潔。
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key,是影像系統打光的bright field,影像品質較佳,環形打光適用於align key有高度差的構造, 是影像系統打光的dark field,影像品質通常較差。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊,若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
2KW高壓汞燈是一種汞氙燈,點燈時需要2~3萬伏的高壓,電源供應器產生此高壓過程會有響亮電擊聲,屬正常。
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換,若真空膜片良好也放置妥當,可再試著調整吸附真空,若情形無改善,可能是管路阻塞,需拆管路清潔。