本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
光罩吸盤以真空吸附固定光罩,兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好,可先用溶劑把兩者清潔,若仍有漏氣,可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除,再用溶劑把兩者清潔。
請檢查散熱風扇,可能是風路被擋住造成燈箱內部過熱而啟動溫度保護開關,造成電源供應器跳脫。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。